光驰科技(上海)有限公司 main business:生产经营用于光通信设备,导光系统中制备各种光学部件的增透膜和各类型滤光片的高精度镀膜设备以及工艺的研究和开发(涉及许可经营的凭许可证经营) and other products. Company respected "practical, hard work, responsibility" spirit of enterprise, and to integrity, win-win, creating business ideas, to create a good business environment, with a new management model, perfect technology, attentive service, excellent quality of basic survival, we always adhere to customer first intentions to serve customers, persist in using their services to impress clients.
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- 生产用于光通信设备、导光系统中制备各种光学部件的增透膜和各类型滤光片的高精度镀膜设备和相关机械零部件的加工;眼镜镜片加工(限城银路297号),销售自产产品;以及工艺的研究和开发;相关设备的维修及售后服务。 【依法须经批准的项目,经相关部门批准后方可开展经营活动】
类型 | 名称 | 网址 |
网站 | 光驰科技(上海)有限公司 | www.optorun.sh.cn |
序号 | 公布号 | 发明名称 | 公布日期 | 摘要 |
1 | CN105785483A | 红外光学薄膜保护膜及其制备方法 | 2016.07.20 | 本发明涉及薄膜制备技术,具体涉及一种红外光学薄膜保护膜及其制备方法,其特征在于:所述保护膜镀于红外光 |
2 | CN205774776U | 多蒸发源镀膜装置 | 2016.12.07 | 本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其是一种多蒸发源镀膜装置,其特征在于:在所述真空镀膜室内设置有多个 |
3 | CN205844552U | 防污硬质膜 | 2016.12.28 | 本实用新型涉及光学薄膜技术领域,尤其是一种防污硬质膜,其特征在于:所述防污硬质膜至少包括类金刚石薄膜 |
4 | CN205774780U | 堆栈式溅射镀膜装置 | 2016.12.07 | 本实用新型涉及光学薄膜技术领域,尤其是一种堆栈式溅射镀膜装置,其特征在于:所述真空镀膜室的一侧设置有 |
5 | CN205774789U | 具有可调节角度膜厚控制探头的膜厚控制装置 | 2016.12.07 | 本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其是一种具有可调节角度膜厚控制探头的膜厚控制装置,其特征在于:所述 |
6 | CN205774775U | 防污膜镀膜装置 | 2016.12.07 | 本实用新型涉及光学薄膜技术领域,尤其是一种防污膜镀膜装置,其特征在于:所述镀膜装置包括至少两个蒸发源 |
7 | CN104213086B | 一种双臂自动装片式溅射镀膜方法及其装置 | 2017.03.22 | 本发明涉及真空薄膜技术领域,具体涉及一种双臂自动装片式溅射镀膜方法及其装置,其特征在于:在所述真空镀 |
8 | CN105047512B | 具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法 | 2017.03.15 | 本发明涉及微细加工技术领域,尤其是具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法,其特征在于:所述系统 |
9 | CN104925473B | 一种解决基板搬送小车通用性的控制方法 | 2017.03.01 | 本发明涉及真空镀膜领域,尤其是一种解决基板搬送小车通用性的控制方法,其特征在于:所述控制方法至少包括 |
10 | CN104498890B | 用于防污膜镀膜的加液系统 | 2017.02.22 | 本发明涉及真空镀膜领域,尤其涉及用于防污膜镀膜的加液系统,特别是适用于对液态材料进行精确计量并加注的 |
11 | CN104498889B | 自动化连续式防污膜镀膜装置 | 2017.02.22 | 本发明涉及真空镀膜领域,尤其涉及自动化连续式防污膜镀膜装置,特别是适用于对液态有机蒸镀材料进行真空蒸 |
12 | CN106399950A | 一种实现离子源均匀照射镀膜基片的镀膜方法 | 2017.02.15 | 本发明涉及真空镀膜技术领域,尤其是一种实现离子源均匀照射镀膜基片的镀膜方法,其特征在于:将所述离子源 |
13 | CN205893382U | 组合式镀膜工件伞架 | 2017.01.18 | 本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其是一种组合式镀膜工件伞架,其特征在于:所述镀膜工件伞架至少包括中 |
14 | CN106086800A | 在PMMA或PC材质基板上制备高性能减反射膜的工艺 | 2016.11.09 | 本发明涉及光学薄膜制备技术领域,尤其是一种在PMMA或PC材质基板上制备高性能减反射膜的工艺,其特征 |
15 | CN205556763U | 采用扫描式蒸发源的镀膜装置 | 2016.09.07 | 本实用新型涉及薄膜制备技术,具体涉及一种采用扫描式蒸发源的镀膜装置及其镀膜方法,其特征在于:在真空镀 |
16 | CN105887020A | 多蒸发源镀膜装置及其镀膜方法 | 2016.08.24 | 本发明涉及真空镀膜技术领域,尤其是一种多蒸发源镀膜装置及其镀膜方法,其特征在于:在所述真空镀膜室内设 |
17 | CN105887030A | 堆栈式溅射镀膜装置及其镀膜方法 | 2016.08.24 | 本发明涉及光学薄膜技术领域,尤其是一种堆栈式溅射镀膜装置及其镀膜方法,其特征在于:所述真空镀膜室的一 |
18 | CN105695938A | 采用扫描式蒸发源的镀膜装置及其镀膜方法 | 2016.06.22 | 本发明涉及薄膜制备技术,具体涉及一种采用扫描式蒸发源的镀膜装置及其镀膜方法,其特征在于:在真空镀膜室 |
19 | CN103993267B | 一种镀膜机中补正板的设置修正方法 | 2016.05.25 | 本发明涉及薄膜制备技术领域,具体涉及一种镀膜机中补正板的设置修正方法,其特征在于:所述设置修正方法至 |
20 | CN105047512A | 具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法 | 2015.11.11 | 本发明涉及微细加工技术领域,尤其是具备多层载物能力的离子束刻蚀系统及其刻蚀方法,其特征在于:所述系统 |
21 | CN204714888U | 磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置 | 2015.10.21 | 本实用新型涉及真空镀膜领域,尤其是磁控溅射孪生旋转靶材的气体供应装置,其特征在于:所述气体供应装置至 |
22 | CN204709851U | 用于油扩散泵的低温冷阱 | 2015.10.21 | 本实用新型涉及制冷设备领域,尤其是用于油扩散泵的低温冷阱,其特征在于:包括底座、冷凝片和进、出水管, |
23 | CN204713967U | 基板搬送小车的控制系统 | 2015.10.21 | 本实用新型涉及真空镀膜领域,尤其是基板搬送小车的控制系统,其特征在于:所述系统包括光纤传感器和控制器 |
24 | CN204714885U | 用于电子枪蒸发镀铝的坩埚 | 2015.10.21 | 本实用新型涉及真空镀膜领域,尤其是用于电子枪蒸发镀铝的坩埚,其特征在于:所述坩埚包括陶瓷坩锅体和刚玉 |
25 | CN204720414U | 应用于离子束刻蚀系统的基片承载装置 | 2015.10.21 | 本实用新型涉及微细加工技术领域,尤其是应用于离子束刻蚀系统的基片承载装置,其特征在于:所述装置包括旋 |
26 | CN204714886U | 双向沉积镀膜装置 | 2015.10.21 | 本实用新型涉及薄膜制备技术领域,尤其是双向沉积镀膜装置,其特征在于:所述工件伞架的上方和下方分别固定 |
27 | CN204125527U | 一种双臂自动装片式溅射镀膜装置 | 2015.01.28 | 本实用新型涉及真空薄膜技术领域,具体涉及一种双臂自动装片式溅射镀膜装置,其特征在于:在所述真空镀膜室 |
28 | CN103205716B | 用于蒸镀防污膜的蒸镀材料的吸附载体 | 2015.09.23 | 本发明提供一种用于蒸镀防污膜的蒸镀材料的吸附载体,所述吸附载体是金属粉末的烧结体,所述的金属粉末为选 |
29 | CN104925473A | 一种解决基板搬送小车通用性的控制方法 | 2015.09.23 | 本发明涉及真空镀膜领域,尤其是一种解决基板搬送小车通用性的控制方法,其特征在于:所述控制方法至少包括 |
30 | CN104878356A | 一种磁控溅射靶材磁铁放置角度的确定方法 | 2015.09.02 | 本发明涉及真空镀膜领域,尤其是一种磁控溅射靶材磁铁放置角度的确定方法,其特征在于:所述确定方法至少包 |
31 | CN104862656A | 双向沉积镀膜装置及镀膜方法 | 2015.08.26 | 本发明涉及薄膜制备技术领域,尤其是双向沉积镀膜装置及镀膜方法,其特征在于:所述工件伞架的上方和下方分 |
32 | CN204474753U | 用于真空系统运动机构的锁紧机构 | 2015.07.15 | 本实用新型涉及真空镀膜设备领域,尤其涉及用于真空系统运动机构的锁紧机构,其特征在于:所述机构至少由驱 |
33 | CN204369983U | 用于防污膜镀膜的加液系统 | 2015.06.03 | 本实用新型涉及真空镀膜领域,尤其涉及用于防污膜镀膜的加液系统,特别是适用于对液态材料进行精确计量并加 |
34 | CN204369972U | 用于自动化连续式防污膜镀膜的坩埚加热头 | 2015.06.03 | 本实用新型涉及真空镀膜领域,尤其涉及用于自动化连续式防污膜镀膜的坩埚加热头,其特征在于:所述外引线外 |
35 | CN204369984U | 自动化连续式防污膜镀膜装置 | 2015.06.03 | 本实用新型涉及真空镀膜领域,尤其涉及自动化连续式防污膜镀膜装置,特别是适用于对液态有机蒸镀材料进行真 |
36 | CN204369973U | 用于防污膜镀膜的自动清理加液滴嘴 | 2015.06.03 | 本实用新型涉及真空镀膜领域,尤其涉及用于防污膜镀膜的自动清理加液滴嘴,特别适用于真空镀膜领域中对液态 |
37 | CN102899632B | 镀膜方法及其镀膜装置 | 2015.05.20 | 关于在离子辅助方式的镀膜方法中,通过离子辅助难于提高形成的薄膜的致密化效果。在镀膜腔室10中设置固定 |
38 | CN104597621A | 双面镀膜防蓝光树脂镜片 | 2015.05.06 | 本发明涉及镀膜产品领域,尤其涉及双面镀膜防蓝光树脂镜片,其特征在于:所述树脂镜片外侧表面的所述镀膜层 |
39 | CN104498890A | 用于防污膜镀膜的加液系统 | 2015.04.08 | 本发明涉及真空镀膜领域,尤其涉及用于防污膜镀膜的加液系统,特别是适用于对液态材料进行精确计量并加注的 |
40 | CN104498889A | 自动化连续式防污膜镀膜装置 | 2015.04.08 | 本发明涉及真空镀膜领域,尤其涉及自动化连续式防污膜镀膜装置,特别是适用于对液态有机蒸镀材料进行真空蒸 |
41 | CN204174275U | 一种用于双面连续镀膜的分段式翻转镀膜治具机构 | 2015.02.25 | 本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种用于双面连续镀膜的分段式翻转镀膜治具机构,其特征在于:所 |
42 | CN204174265U | 一种可实现真空状态下自动翻片的翻转驱动装置 | 2015.02.25 | 本实用新型涉及真空镀膜技术领域,尤其涉及一种可实现真空状态下自动翻片的翻转驱动装置,其特征在于:所述 |
43 | CN104213086A | 一种双臂自动装片式溅射镀膜方法及其装置 | 2014.12.17 | 本发明涉及真空薄膜技术领域,具体涉及一种双臂自动装片式溅射镀膜方法及其装置,其特征在于:在所述真空镀 |
44 | CN103993267A | 一种镀膜机中补正板的设置修正方法 | 2014.08.20 | 本发明涉及薄膜制备技术领域,具体涉及一种镀膜机中补正板的设置修正方法,其特征在于:所述设置修正方法至 |
45 | CN203530419U | 一种电子束蒸镀ITO膜的蒸镀装置 | 2014.04.09 | 本实用新型涉及薄膜生长领域,具体涉及一种电子束蒸镀ITO膜的蒸镀装置,用于LED芯片的制造,其特征在 |
46 | CN102719795B | 成膜装置 | 2014.01.01 | 一种成膜装置,构成包括蒸镀釜及其内的加热部,在所述的蒸镀釜内与所述的加热部的蒸汽出汽口相对的是基板及 |
47 | CN103205716A | 用于蒸镀防污膜的蒸镀材料的吸附载体 | 2013.07.17 | 本发明提供一种用于蒸镀防污膜的蒸镀材料的吸附载体,所述吸附载体是金属粉末的烧结体,所述的金属粉末为选 |
48 | CN101984135B | 成膜基板夹具及其成膜装置 | 2013.07.10 | 一种成膜基板夹具及其成膜装置,涉及成膜基板夹具及成膜装置技术领域,所解决的是降低生产成本,提高生产率 |
49 | CN202865319U | 镀膜装置 | 2013.04.10 | 一种镀膜装置,包括一个镀膜腔室,该镀膜腔室经排气管与真空泵相连,在该镀膜腔室的上方中轴位置通过旋转轴 |
50 | CN202755046U | 成膜装置 | 2013.02.27 | 一种成膜装置,构成包括蒸镀釜及其内的加热部,在所述的蒸镀釜内与所述的加热部的蒸汽出汽口相对的是基板及 |